In rap tempo atoomlagen aanbrengen : VOM dag van de oppervlaktetechnologie bespreekt depositie in detail
other
TN0 is momenteel bezig met het doorontwikketen van SpatiaI Atomic Layer Deposition fspatiaL ALDI: het aanbrengen van oppervtaktelagen met atoomtaagdikte. 0nderzoekster Mireitte Smets MSc besprak op de VOM Dag van de Oppervlaktetechnologie (15 november) de laatste stand van zaken en de inzet van ALD in de praktijk. "Inmiddels zijn we zover dat we spatial ALD kunnen toepassen op folies in onze roll-to-roll reactor." TN0 wil graag nauw samenwerken met onder meer potentiële eindgebruikers van de technologie.
Topics
TNO Identifier
472060
Source
Oppervlaktetechnieken, 57(April), pp. 30-32.
Pages
30-32
Files
To receive the publication files, please send an e-mail request to TNO Repository.